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磷化铟衬底选购指南

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一、磷化铟衬底该如何进行选择?鑫科汇为您从以下维度做出分析:

(1):2寸磷化铟的基本参数:

  • 尺寸:2 inch (50.8 mm)
  • 晶向:(100) ±0.5°(最常用)
  • 表面:单面抛光 / 双面抛光
  • 边缘:倒角处理,无崩边
  • 包装:真空 + 防静电盒

以上为2英寸磷化铟衬底的基本规格,统一必选,也是绝对要说明的参数。

(2)、如果您的磷化铟衬底是用于不同的应用。鑫科汇为你从用途分类做出如下参考:

1)科研级 / 实验级(高校 / 实验室)

适用:外延生长 (MBE/MOCVD)、工艺开发、器件验证
  • 导电类型:半绝缘 Fe 掺杂
  • 电阻率:>1×10⁷ Ω・cm
  • 位错密度:EPD ≤5×10⁴ cm⁻²
  • 厚度:350–400 μm
  • 表面粗糙度:Ra <0.5 nm
  • 特点:性价比高,满足常规实验
  • 参考价区间:¥16,500 ~ 20,000 / 片

2)光通信器件级(DFB/EML/APD/ 光模块)

适用:10G/25G/50G 激光器、探测器
  • 导电类型:半绝缘高阻 Fe 掺杂
  • 电阻率:>5×10⁷ Ω・cm
  • 位错密度:EPD ≤1×10⁴ cm⁻²
  • 厚度:350–500 μm
  • 平整度 / 翘曲:严格控制,适合外延量产
  • 特点:一致性好,良率稳定
  • 参考价区间:¥20,000 ~ 25,000 / 片
2寸磷化铟衬底磷化铟衬底

3)高频射频 / 毫米波级(雷达 / 卫星通信)

适用:HBT、pHEMT、毫米波芯片
  • 导电类型:半绝缘超高阻
  • 电阻率:>1×10⁸ Ω・cm
  • 位错密度:EPD ≤5×10³ cm⁻²
  • 晶向精度:±0.1° 或更高
  • 特点:极低缺陷、高均匀性
  • 参考价区间:¥25,000 ~ 36,000 / 片

4)导电型 InP(N 型 / P 型,特殊器件)

适用:发光器件、光伏、特殊二极管
  • N 型:Si 掺杂,载流子 1e15~1e18 cm⁻³
  • P 型:Zn 掺杂,载流子 1e15~1e17 cm⁻³
  • 厚度:350–600 μm
  • 价格略低于半绝缘高端型号

二、我公司提供的磷化铟衬底通用参数(可支持定做):

2英寸磷化铟衬底参数表:

参数 半绝缘规格 半导体规格 单位
产品类型 半绝缘 n型(n-type) P型(p-type)
生长工艺 VGF
掺杂 Fe S,Sn/Un Zn
尺寸 2″ 2″  2″ inch
晶向 <100> <100> <100>
OF/IF EJ,US EJ,US EJ,US
电阻率(常温) ≥0.5×10 ohm.cm
载流子浓度 N/A (2~8)×10/(1~10)×10  (2~8)×10¹8 cm³
电子迁移率 ≥2000 1000~2500/3000~5000 50~100 cm²/v.s
 位错密度(均值) ≤2000 ≤500/≤5000 ≤500 /cm²
激光打标 Upon request Upon request Upon request
厚度 350±25 μm
总厚度变化(双面抛光) ≤6 ≤6 ≤6 μm
总厚度变化(单面抛光) ≤8 ≤8 ≤8 μm
翘曲度 ≤8 ≤8 ≤8 μm
表面 Polished/Etched Polished/Etched Polished/Etched Sidel
Polished/Etched Polished/Etched Polished/Etched Side2

 

  3英寸磷化铟衬底参数表:

参数 半绝缘规格 半导体规格 单位
产品类型 半绝缘 n型(n-type) P型(p-type)
生长工艺 VGF
掺杂 Fe S,Sn/Un Zn
尺寸 3″ inch
晶向 <100> <100> <100>
OF/IF EJ,US EJ,US EJ,US
电阻率(常温) ≥0.5×10 ohm.cm
载流子浓度 N/A (2~8)×10/(1~10)×10  (2~8)×10¹8 cm³
电子迁移率 ≥800 1000~2500/3000~5000 50~100 cm²/v.s
 位错密度(均值) ≤2000 ≤500/≤5000 ≤500 /cm²
激光打标 Upon request Upon request Upon request
厚度 625±25 μm
总厚度变化(双面抛光) ≤10 ≤10 <10 μm
总厚度变化(单面抛光) ≤15 ≤15 ≤15 μm
翘曲度 ≤15 ≤15 ≤15 μm
表面 Polished/Etched Polished/Etched Polished/Etched Sidel
Polished/Etched Polished/Etched Polished/Etched Side2

 4英寸磷化铟衬底参数表:

参数 半绝缘规格 半导体规格 单位
产品类型 半绝缘 n型(n-type) P型(p-type)
生长工艺 VGF
掺杂 Fe S,Sn/Un Zn
尺寸 4″ 4″  4″ inch
晶向 <100> <100> <100>
OF/IF EJ,US EJ,US EJ,US
电阻率(常温) ≥0.5×10 ohm.cm
载流子浓度 N/A (2~8)×10/(1~10)×10  (2~8)×10¹8 cm³
电子迁移率 ≥800 1000~2500/3000~5000 50~100 cm²/v.s
 位错密度(均值) ≤2000 ≤500/≤5000 ≤500 /cm²
激光打标 Upon request Upon request Upon request
厚度 650±25 μm
总厚度变化(双面抛光) ≤10 ≤10 <10 μm
总厚度变化(单面抛光) ≤15 ≤15 ≤15 μm
翘曲度 ≤15 ≤15 ≤15 μm
表面 Polished/Etched Polished/Etched Polished/Etched Sidel
Polished/Etched Polished/Etched Polished/Etched Side2

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